隨著半導體工藝的不斷提升，EUV光刻機已經成為了不可或缺的關鍵設備。而在目前市場上，只有ASML公司能夠製造這種高端光刻機，且單台售價高達10億人民幣。而今年底，ASML公司將會迎來下一代EUV光刻機，價格也將會大幅上漲。
光刻機的分辨率越高，越有利於製造更小的晶體管。而分辨率的高低，直接關係到光刻機物鏡的NA數值孔徑。目前市場上的EUV光刻機是NA=0.33技術的，而下一代EUV光刻機則將會提升到NA=0.55。根據ASML公司高管透露的消息，NA=0.55的EUV光刻機今年底將會出貨首個商用原型，到2025年將會正式量產。
雖然目前還不清楚哪家公司將會首發NA=0.55光刻機，但是英特爾公司已經表示他們將會率先使用下一代EUV光刻機，並已經巨資提前下單。從時間點上來看，台積電、英特爾、三星的2nm級別工藝是趕不上的，最快也要到1.4nm工藝才能使用NA=0.55光刻機。而對於未來生產1nm工藝來說，NA=0.55的EUV光刻機則是不可或缺的設備。
隨著技術的不斷提升，EUV光刻機的售價也在不斷攀升。由於更加複雜、精密，NA=0.55的EUV光刻機價格大幅上漲，具體多少還不確定。但是此前有消息稱，價格不低於4億美元，約合人民幣近30億元，是目前市場上2-3倍的價格。而在未來正式商用的時候，價格還有可能進一步上漲。毕竟，要等好幾年才能上市，市場需求也在不斷增加。
